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Un buon prezzo.  in linea

Dettagli dei prodotti

Created with Pixso. Casa. Created with Pixso. prodotti Created with Pixso.
Substrati a cristallo singolo
Created with Pixso. 4 pollici di diametro 1 mm SGGG Wafer sostituito Gadolinium Gallium Garnet

4 pollici di diametro 1 mm SGGG Wafer sostituito Gadolinium Gallium Garnet

Marchio: Crystro
Numero di modello: CR210127-03
MOQ: 1pc
Tempo di consegna: 4-5weeks
Condizioni di pagamento: T/T, Western Union, MoneyGram, PayPal
Informazioni dettagliate
Luogo di origine:
CINESE
Certificazione:
SGS/ROHS
Materiale:
4 pollici di diametro 1 mm di spessore GSGG Wafer
Piatto:
<1>
Metodo della crescita dei cristalli:
Czochralski
Dimensione massima:
4 pollici di diametro
Densità:
70,09 g/cm3
Luogo di origine:
Anhui, Cina
Servizio post-vendita:
Supporto tecnico video, supporto online
Relazione sull'esperimento::
Fornito
Imballaggi particolari:
Scatola pulita trasparente
Capacità di alimentazione:
5000 PCS PER MESE
Evidenziare:

Wafer SGGG da 4 pollici

,

Wafer SGGG da 1 mm

,

Granato di gallio di gadolinio sostituito da 1 mm

Descrizione del prodotto

4 pollici di diametro 1 mm di spessore GSGG Wafer

 

Granato di gallio di gadolinio sostituitoS.G.G.G.) èIl parametro reticolare dei nostri cristalli è ben controllato e la finitura superficiale è di altissima qualità, consentendo un'epitaxia perfetta.

Si tratta di un substrato speciale per filtri magneto ottici.e il componente centrale è una pellicola YIG o BIG posta nel campo magneticoDiversi substrati monocristallini GGG tangenziali possono essere abbinati al reticolo di tali materiali magneto-ottici, garantendo così la crescita epitaxiale di successo di film YIG e BIG.Il buon fisicoLa stabilità meccanica e chimica del SGGG garantisce anche i requisiti del substrato nel processo di perparazione del film.

 

Nome del prodotto: SGGG, substrato monocristallino
Parametri tecnici: Formula chimica GGG sostituito
Modulo di reticolo 12.497A
Metodo di crescita Czochralski
Durezza di Mohs 7.5
Punto di fusione 1730° C
Purezza > 99,99%
Densità 70,09 g/cm3
Roverezza della superficie con un'altezza di 50 mm o più
Italiano di larghezza superiore a 20 mm
Orientazione Classificazione:+0.2°
Indice di rifrazione 1.954 a 1064 nm
Specificità: Tolleranza: + / -2 gradi
10x10x1.0mm; 20x20x1.0mm; 3" diametro x 0.5mm; 4" diametro x 0.5mm...
Può essere personalizzato orientamento e dimensione.
Imballaggio standard: 1000 spazi puliti, 100 sacchetti puliti o confezioni singole
Istruzioni per la conservazione: Dato che il metallo si ossida facilmente, per favore immagazzinare sotto vuoto, utilizzare entro un mese.
 
 
I nostri vantaggi:
 
Fabbrica diretta
Set completo di macchine dal taglio al rivestimento e all'ispezione
Un team di ricerca e sviluppo professionale con più di 20 anni di esperienza
Società certificata SGS
Controllo della qualità rigoroso e sistema post-vendita
Capacità sufficiente e produzione flessibile per le esigenze dei clienti
 
 

 Applicazione:

 

SGGG è usato come substrato per l'epitaxia liquida. È un substrato dedicato per film magneto-ottico.                              

 

Confronta GGG con SGGG:

 

Materiale GGG S.G.G.G.
Formula chimica Gd3Ga5O12 GGG sostituito
Costante di reticolo 12.383A 12.497A
Metodo di crescita Czochralski Czochralski
Densità 70,13 g/cm3 70,09 g/cm3
Durezza di Mohs 8 7.5
Punto di fusione 1725°C 1730°C
Indice di rifrazione 1.954 a 1064 nm 1.954 a 1064nm

4 pollici di diametro 1 mm SGGG Wafer sostituito Gadolinium Gallium Garnet 0

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Substrati a cristallo singolo
Created with Pixso. 4 pollici di diametro 1 mm SGGG Wafer sostituito Gadolinium Gallium Garnet

4 pollici di diametro 1 mm SGGG Wafer sostituito Gadolinium Gallium Garnet

Marchio: Crystro
Numero di modello: CR210127-03
MOQ: 1pc
Dettagli dell' imballaggio: Scatola pulita trasparente
Condizioni di pagamento: T/T, Western Union, MoneyGram, PayPal
Informazioni dettagliate
Luogo di origine:
CINESE
Marca:
Crystro
Certificazione:
SGS/ROHS
Numero di modello:
CR210127-03
Materiale:
4 pollici di diametro 1 mm di spessore GSGG Wafer
Piatto:
<1>
Metodo della crescita dei cristalli:
Czochralski
Dimensione massima:
4 pollici di diametro
Densità:
70,09 g/cm3
Luogo di origine:
Anhui, Cina
Servizio post-vendita:
Supporto tecnico video, supporto online
Relazione sull'esperimento::
Fornito
Quantità di ordine minimo:
1pc
Imballaggi particolari:
Scatola pulita trasparente
Tempi di consegna:
4-5weeks
Termini di pagamento:
T/T, Western Union, MoneyGram, PayPal
Capacità di alimentazione:
5000 PCS PER MESE
Evidenziare:

Wafer SGGG da 4 pollici

,

Wafer SGGG da 1 mm

,

Granato di gallio di gadolinio sostituito da 1 mm

Descrizione del prodotto

4 pollici di diametro 1 mm di spessore GSGG Wafer

 

Granato di gallio di gadolinio sostituitoS.G.G.G.) èIl parametro reticolare dei nostri cristalli è ben controllato e la finitura superficiale è di altissima qualità, consentendo un'epitaxia perfetta.

Si tratta di un substrato speciale per filtri magneto ottici.e il componente centrale è una pellicola YIG o BIG posta nel campo magneticoDiversi substrati monocristallini GGG tangenziali possono essere abbinati al reticolo di tali materiali magneto-ottici, garantendo così la crescita epitaxiale di successo di film YIG e BIG.Il buon fisicoLa stabilità meccanica e chimica del SGGG garantisce anche i requisiti del substrato nel processo di perparazione del film.

 

Nome del prodotto: SGGG, substrato monocristallino
Parametri tecnici: Formula chimica GGG sostituito
Modulo di reticolo 12.497A
Metodo di crescita Czochralski
Durezza di Mohs 7.5
Punto di fusione 1730° C
Purezza > 99,99%
Densità 70,09 g/cm3
Roverezza della superficie con un'altezza di 50 mm o più
Italiano di larghezza superiore a 20 mm
Orientazione Classificazione:+0.2°
Indice di rifrazione 1.954 a 1064 nm
Specificità: Tolleranza: + / -2 gradi
10x10x1.0mm; 20x20x1.0mm; 3" diametro x 0.5mm; 4" diametro x 0.5mm...
Può essere personalizzato orientamento e dimensione.
Imballaggio standard: 1000 spazi puliti, 100 sacchetti puliti o confezioni singole
Istruzioni per la conservazione: Dato che il metallo si ossida facilmente, per favore immagazzinare sotto vuoto, utilizzare entro un mese.
 
 
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SGGG è usato come substrato per l'epitaxia liquida. È un substrato dedicato per film magneto-ottico.                              

 

Confronta GGG con SGGG:

 

Materiale GGG S.G.G.G.
Formula chimica Gd3Ga5O12 GGG sostituito
Costante di reticolo 12.383A 12.497A
Metodo di crescita Czochralski Czochralski
Densità 70,13 g/cm3 70,09 g/cm3
Durezza di Mohs 8 7.5
Punto di fusione 1725°C 1730°C
Indice di rifrazione 1.954 a 1064 nm 1.954 a 1064nm

4 pollici di diametro 1 mm SGGG Wafer sostituito Gadolinium Gallium Garnet 0