Dettagli dei prodotti

Casa. prodotti

Wafer LaAlO3 rotondo Substrato ottico fase sperimentale ad alta pressione doppio lato lucidato

Wafer LaAlO3 rotondo Substrato ottico fase sperimentale ad alta pressione doppio lato lucidato

Marchio:	Crystro
Numero di modello:	CR20200108-8
MOQ:	1pc
prezzo:	Negoziabile
Tempo di consegna:	3-4 settimane
Condizioni di pagamento:	T/T, Western Union, MoneyGram, PayPal

Informazioni dettagliate

Descrizione del prodotto

Informazioni dettagliate

Luogo di origine:

CINESE

Certificazione:

Orientamento:

< 100>

Tipo:

Rotondo, quadrato

Diametro:

2 pollici, 3 pollici, 4 pollici.

Spessore:

0.5mm, 1mm

Lucidatura:

doppio lato lucidato

Finitura superficiale:

< 10A="">

Materiale:

LaAlO3

Forma:

Wafer

Imballaggi particolari:

Imballaggio in cartone

Capacità di alimentazione:

1000 pezzi/mese

Evidenziare:

elementi di monocristallo

substrato laalo3

Sottostrato ottico per wafer LaAlO3

Descrizione del prodotto

Fase sperimentale ad alta pressione del substrato ottico della Wafer LaAlO3

LaAlO₃è un substrato a cristallo singolo superconduttore ad alta temperatura ed è un buon materiale da substrato per la crescita epitassiale di film sottili superconduttori ad alta temperatura e film sottili magnetici giganti.Le sue proprietà dielettriche sono idonee per applicazioni di microonde a bassa perdita e risonanza dielettrica.

LaAlO₃Il cristallo singolo fornisce una buona corrispondenza reticolare a molti materiali con struttura perovskitica.pellicole sottili magnetiche e ferroelettricheLe proprietà dielettriche del cristallo LaAlO3 sono adatte per applicazioni di risonanza dielettrica e microonde a bassa perdita.

Applicazioni:

Dispositivi elettronici, catalisi, celle a combustibile ad alta temperatura, ceramica, trattamento delle acque reflue, materiali di substrato

Principali vantaggi:

Bassa costante dielettrica; bassa perdita dielettrica;buona corrispondenza reticolare;piccolo coefficiente di espansione termica;buona stabilità chimica;ampio gap energetico;grande superficie specifica;certa attività;buona stabilità termica

Proprietà principali:

	Proprietà fisiche tipiche
Struttura cristallina	A = 3,79 Angstroms
Metodo di crescita	Czochralski
Densità	60,52 g/cm³
Punto di fusione	2080^oC
Espansione termica	10 (x10)^-6/^oC)
Costante dielettrica	~ 25
Tangente di perdita a 10 GHz	~ 3x10^{- 4}@ 300K, ~ 0,6 x 10^{- 4}@77K
Colore e aspetto	Trasparente a marrone in base alle condizioni di ricottura.
Stabilità chimica	Insolubile in acidi minerali a 25^oC e solubile in H3PO3 a> 150^oC

Tag:

Dettagli dei prodotti

Casa. prodotti

Substrati a cristallo singolo

Wafer LaAlO3 rotondo Substrato ottico fase sperimentale ad alta pressione doppio lato lucidato

Tutte le categorie

Wafer LaAlO3 rotondo Substrato ottico fase sperimentale ad alta pressione doppio lato lucidato

Marchio:	Crystro
Numero di modello:	CR20200108-8
MOQ:	1pc
prezzo:	Negoziabile
Dettagli dell' imballaggio:	Imballaggio in cartone
Condizioni di pagamento:	T/T, Western Union, MoneyGram, PayPal

Informazioni dettagliate

Descrizione del prodotto

Informazioni dettagliate

Luogo di origine:

CINESE

Marca:

Crystro

Certificazione:

SGS

Numero di modello:

CR20200108-8

Orientamento:

< 100>

Tipo:

Rotondo, quadrato

Diametro:

2 pollici, 3 pollici, 4 pollici.

Spessore:

0.5mm, 1mm

Lucidatura:

doppio lato lucidato

Finitura superficiale:

< 10A="">

Materiale:

LaAlO3

Forma:

Wafer

Quantità di ordine minimo:

1pc

Prezzo:

Negoziabile

Imballaggi particolari:

Imballaggio in cartone

Tempi di consegna:

3-4 settimane

Termini di pagamento:

T/T, Western Union, MoneyGram, PayPal

Capacità di alimentazione:

1000 pezzi/mese

Evidenziare:

elementi di monocristallo

substrato laalo3

Sottostrato ottico per wafer LaAlO3

Descrizione del prodotto

Fase sperimentale ad alta pressione del substrato ottico della Wafer LaAlO3

Applicazioni:

Dispositivi elettronici, catalisi, celle a combustibile ad alta temperatura, ceramica, trattamento delle acque reflue, materiali di substrato

Principali vantaggi:

Proprietà principali:

	Proprietà fisiche tipiche
Struttura cristallina	A = 3,79 Angstroms
Metodo di crescita	Czochralski
Densità	60,52 g/cm³
Punto di fusione	2080^oC
Espansione termica	10 (x10)^-6/^oC)
Costante dielettrica	~ 25
Tangente di perdita a 10 GHz	~ 3x10^{- 4}@ 300K, ~ 0,6 x 10^{- 4}@77K
Colore e aspetto	Trasparente a marrone in base alle condizioni di ricottura.
Stabilità chimica	Insolubile in acidi minerali a 25^oC e solubile in H3PO3 a> 150^oC

Tag:

Cristalli a magneto ottico

Substrati a cristallo singolo

Cristalli ad effetto piezoelettrico

Isolatore di Faraday

Cristalli di scintillazione

Cristali laser

Interruttore Pockels Cell Q

Altri cristalli singoli

Cristallo di TGG

Cristallo di TSAG

GGG Crystal

Wafer LaAlO3

Q Cristali di commutazione

Cristalli a magneto ottico

Substrati a cristallo singolo

Cristalli ad effetto piezoelettrico

Isolatore di Faraday

Cristalli di scintillazione

Cristali laser

Interruttore Pockels Cell Q

Altri cristalli singoli

Cristallo di TGG

Cristallo di TSAG

GGG Crystal

Wafer LaAlO3

Q Cristali di commutazione

Dettagli dei prodotti

Wafer LaAlO3 rotondo Substrato ottico fase sperimentale ad alta pressione doppio lato lucidato

elementi di monocristallo

substrato laalo3

Sottostrato ottico per wafer LaAlO3

Dettagli dei prodotti

Cristalli a magneto ottico

Substrati a cristallo singolo

Cristalli ad effetto piezoelettrico

Isolatore di Faraday

Cristalli di scintillazione

Cristali laser

Interruttore Pockels Cell Q

Altri cristalli singoli

Cristallo di TGG

Cristallo di TSAG

GGG Crystal

Wafer LaAlO3

Q Cristali di commutazione

Wafer LaAlO3 rotondo Substrato ottico fase sperimentale ad alta pressione doppio lato lucidato

elementi di monocristallo

substrato laalo3

Sottostrato ottico per wafer LaAlO3